| 장비명 | 고분해능 전자현미분석기(EPMA) | 모델명 | EPMA-8050G |
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| 제작사 | Japan Shimadzu Corporation | 도입시기 | 2020년 |
| 설치장소 | 포항 포미아강관기술센타 실험실(1층) | ||
| 장비외관 및 사진 |
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| 기기사양 | • Electron Optical System - Acceleration voltage: 0.5 to 30kV - Secondary electron image resolution : 3nm 20nm at 10kV-10nA 50nm at 10kV-100nA 150nm at 10kV-1uA - Maximum beam current : 3uA - Magnification : X40 to X400,000( WD=6.35mm) • X-ray take-off angel : 52.5degree • Rowland Circle radius : 4inch(101.6mm) • Analyte elements range : B(4)~U(92) • Analytical software: Qualitative, Quantitative, Line, Mapping, State, Calibration curve data |
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| 특성 또는 활용분야 | • FE(Field Emission)을 발생시키는 필라멘트인 Schottky Emitter에 고전압을 인가하면 electron beam이 발생되고 CL(Condensor Lens), IL(Iris Lens), OL(Objective Lens)를 통해서 focusing된 beam을 시료표면의 미소영역(nm~um)에 인가해서 시료에서 발생하는 Fluorescent X-ray, Secondary electron, Back-scattered electron의 여러 가지 신호를 각 detector에서 이미지관찰 및 정성,정량,라인,맵핑분석을 실시한다.현재 수출 일부분에 대해 전자현미분석기를 활용한 성분 분석(맵핑, 정량적)이 요구되나 그 수요가 급격히 증가하고 있으며, 최종 필수사항으로 확대될 전망 • 신규 소재/강관 제품에 대한 미세조직적 분석, 성분 분석 장비로 활용 • 재료 분야 범용 장비로 활용 범위 확대 가능 • 강관사 전체, 철강 중소기업, 인근 대학 등 연간 사용 약 1,000시간 사용예상 |
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